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J-GLOBAL ID:200903066865368000

ガス射出成形方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 木下 實三 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993118540
Publication number (International publication number):1994328488
Application date: May. 20, 1993
Publication date: Nov. 29, 1994
Summary:
【要約】【目的】成形品にウェルドマークおよびヘジテーションマークが発生しないガス射出成形方法の提供。【構成】金型20を完全閉鎖状態から所定寸法Rだけ開いた状態(A)にしておき、金型20に溶融樹脂30を充填する第1の工程と、閉鎖の不完全な金型20を型締めすることにより内部に充填された溶融樹脂を加圧して展延する第2の工程(B)と、金型20に充填された溶融樹脂の内部にガスを注入する第3の工程(C)とを含み、第2ないし第3の各工程を第1の工程が終了する前に開始してオーバーラップさせることで、溶融樹脂30の流れの先端部分35を一旦停止させない。これにより、ヘジテーションマーク等の発生が未然に防止される。
Claim (excerpt):
完全閉鎖状態から所定寸法開いた状態の金型に溶融樹脂を充填する第1の工程と、前記閉鎖の不完全な金型を型締めすることにより内部に充填された溶融樹脂を加圧して展延する第2の工程と、前記金型に充填された溶融樹脂の内部にガスを注入する第3の工程とを含み、前記第2ないし第3の各工程を前記第1の工程が終了する前に開始することを特徴とするガス射出成形方法。
IPC (5):
B29C 45/00 ,  B29C 45/26 ,  B29C 49/06 ,  B29C 49/42 ,  B29L 22:00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開平3-133618
  • 特開昭63-027219
  • 特開平4-353408

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