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J-GLOBAL ID：200903066883934756
露光装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
西教 圭一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992347109
Publication number (International publication number)：1994194844
Application date： Dec. 25, 1992
Publication date： Jul. 15, 1994
Summary：
【要約】【目的】 液晶表示素子を含む遮光手段を用いて、マスクの製造コストやマスク交換時間を低減し、処理能力の高い露光装置を提供する。【構成】 液晶表示素子を含んで構成されるマスク11には、制御回路によって、パターン記憶回路に記憶された配線パターンが表示される。露光装置30の光源32からの光14は、マスク11によって遮断/透過され、投影レンズ33によって基板15に照射されて、マスク11に表示された配線パターンが基板15に転写される。したがって、複数の配線パターンを順次表示すれば、マスクの製造コストやマスク交換時間を低減することができ、露光装置30の処理能力を向上することができる。
Claim (excerpt)：
光源と、前記光源からの光の照射方向下流側に配置され、光を透過する透過領域、あるいは光を遮断する遮断領域が配線パターン状に形成される遮光手段と、前記遮光手段に関して光源とは反対側に配置され、前記遮光手段に形成された配線パターンが転写される基板を固定する固定手段と、前記遮光手段と固定手段との間であって、前記遮光手段に形成された配線パターンを基板に投影するレンズとを備える露光装置において、前記遮光手段は、一対の透光性基板間に液晶層を介在した液晶表示素子と、前記液晶層の液晶分子の配向状態を制御する制御手段と、前記液晶表示素子に表示する複数の配線パターンを記憶する記憶手段とを含むことを特徴とする露光装置。
IPC (4)：
G03F 7/20
, G03B 27/32
, G03F 1/00
, G09F 9/35
