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J-GLOBAL ID：200903066884717112

洗浄装置

Inventor： 稲垣 靖史 ,  蒔田 正弘
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 尾川 秀昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991350950
Publication number (International publication number)：1993166780
Application date： Dec. 11, 1991
Publication date： Jul. 02, 1993
Summary：

【要約】【目的】 硫酸と過酸化水素水の混合液を洗浄液として用いる洗浄装置において、洗浄力の低下、薬液の過剰消耗を伴うことなく安定した洗浄を行うことができるようにする。【構成】 混合液の硫酸濃度と過酸化水素濃度を検出する濃度分析手段と、過酸化水素濃度が低下したとき過酸化水素水を補充する過酸化水素水補充手段と、硫酸濃度が低下したとき混合液を交換する混合液交換手段を設ける。

Claim (excerpt)：

硫酸と過酸化水素水の混合液を洗浄液として用いる洗浄装置において、上記混合液の硫酸濃度と過酸化水素濃度を検出する濃度分析手段と、上記混合液の過酸化水素濃度が予め設定された過酸化水素濃度基準値よりも低下したとき過酸化水素水を補充する過酸化水素水補充手段と、上記混合液の硫酸濃度が予め設定された硫酸濃度基準値よりも低下したとき該混合液を排出して新たに硫酸と過酸化水素水の混合液を取り込む混合液交換手段と、を有することを特徴とする洗浄装置

IPC (2)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭51-121254
  
• 特開平3-096234
  
• 特開昭63-014433