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J-GLOBAL ID：200903066886385621

ポジティブフォトレジスト製造用重合体及びこれを含有する化学増幅型ポジティブフォトレジスト組成物

Inventor： パーク ジョー-ヒョン ,  キム ソン-ジュ ,  キム ジ-ホン ,  キム キー-デ
Applicant, Patent owner： クンホセオキュホアハクジュシクヘサ
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997254889
Publication number (International publication number)：1998142801
Application date： Sep. 19, 1997
Publication date： May. 29, 1998
Summary：

【要約】【課題】 遠紫外線に対する透明性が高く、高感度、高解像性があるとともに、保存安定性が優秀であり、アルカリ現像が可能なポジティブフォトレジスト製造用重合体及びこれを含有する化学増幅型ポジティブフォトレジスト組成物を提供することである。【解決手段】 反復単位が次の一般式(I)で表示される重合体である。【化1】(前記式において、R1 、R2 及びR3 はそれぞれ独立的に水素原子又はメチル基であり、R4 は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基であり、R5 は水素原子、メチル基、エチル基、t-ブチル基、テトラヒドロピランイル基又はアルコキシメチレン基であり、j=1〜8、k=0〜8の整数であり、l、m及びnはそれぞれ反復単位を示す数で、l+m+nは1である。)

Claim (excerpt)：

反復単位が次の一般式(I)で表示される、ポリスチレン換算重量平均分子量が2,000〜1,000,000である重合体。【化1】(前記式において、R1 、R2 及びR3 はそれぞれ独立的に水素原子又はメチル基であり、R4 は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基であり、R5 は水素原子、メチル基、エチル基、t-ブチル基、テトラヒドロピランイル基又はアルコキシメチレン基であり、j=1〜8、k=0〜8の整数であり、l、m及びnはそれぞれ反復単位を示す数で、l+m+nは1である。)

IPC (5)：

G03F 7/039 601 ,  C07C 69/736 ,  C08F220/30 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 ,  C07C 69/736 ,  C08F220/30 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 改良された加工特性を有するポジ型フォトレジスト
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-339657   Applicant：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト, オーシージーミクロエレクトロニクスインコーポレーテッド