荷電粒子ビーム露光装置及びそのクリーニング方法

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊東忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993138755
Publication number (International publication number)：1994325709
Application date： Jun. 10, 1993
Publication date： Nov. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】本発明は、継続的に安定して広範囲にプラズマを発生させて、オーバーホールすることなく効率的、かつ効果的にクリーニングが行なえる荷電粒子ビーム露光装置およびそのクリーニング方法を提供することを目的とする。【構成】露光すべき試料に荷電粒子ビームを照射して該試料にパターンを形成する荷電粒子ビーム露光装置において、装置内部に酸素を主成分とするガスを導入し、露光時に偏向を行なう複数の電極に高周波信号を印加して内部にプラズマを発生させ内部の堆積物を除去する。

Claim (excerpt)：

露光すべき試料に荷電粒子ビームを照射して該試料にパターンを形成する荷電粒子ビーム露光装置において、荷電粒子ビームの光軸を取り囲むように設置した複数の電極(D1-D8、71、90、92、107、108、401〜404、501〜508)と、クリーニング時、該複数の電極とクリーニングすべき荷電粒子ビーム露光装置内部に酸素を主成分とするガスを導入し、0.1Torr-4Torrの真空度に保持する第1の手段(M3)と、クリーニング時、前記複数の電極の各々に100kHz-800kHzの範囲内の周波数の高周波信号と接地電位のいずれかを選択的に印加する第2の手段(M2)とを有し、前記荷電粒子ビーム露光装置内部に前記ガスのプラズマ・ラジカル状態を発生させて内部の堆積物をエッチング除去する特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。

IPC (5)：

H01J 37/06 , H01J 37/147 , H01J 37/305 , H01L 21/027 , H05H 1/46

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

特開昭63-173325
特開昭63-156533
特開昭61-059826

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Cited by examiner (18)

特開平3-019314
特開平3-019314
特開平3-265119

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