Pat

J-GLOBAL ID：200903066929333094

フオトマスクおよびそれを用いた露光方法

Inventor： 須賀 治 ,  国吉 伸治 ,  杉本 有俊
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 筒井 大和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991234488
Publication number (International publication number)：1993072717
Application date： Sep. 13, 1991
Publication date： Mar. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 二度露光プロセスのスループット向上およびマスク合わせ精度の向上を図る。【構成】 離間して配置された一群の遮光パターン3aの間の光透過領域の一部に位相シフタ4を設けた第一のパターンAと、前記第一のパターンAの光透過領域と位相シフタ4の端部とが重なる領域を光透過領域とする遮光パターン3bからなる第二のパターンBとを同一ガラス基板2に形成した位相シフト用フォトマスク1である。

Claim (excerpt)：

離間して配置された一群の遮光パターンの間の光透過領域の一部に位相シフタを設けた第一のパターンと、前記第一のパターンの光透過領域と前記位相シフタの端部とが重なる領域を光透過領域とする遮光パターンからなる第二のパターンとを同一ガラス基板に設けたことを特徴とするフォトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W