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J-GLOBAL ID:200903066936199786

フォトレジスト組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐伯 憲生
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997291463
Publication number (International publication number):1998186651
Application date: Sep. 18, 1997
Publication date: Jul. 14, 1998
Summary:
【要約】【課題】 本発明は新規なフォトレジストの調製法を提供する。【解決手段】 全てのモノマー、及び重合の結果として生じたポリマーを溶解する溶媒の中でアクリルモノマーを重合することを特徴とする、アクリル樹脂フォトレジスト組成物とその製造方法に関する。前記の溶媒を使用することにより、前記樹脂の反応混合物から回収することなく、フォトレジストの調製物の中で使用するのに好適なアクリル樹脂を形成できる。このようなポリマーから調製されたフォトレジストは、特に193nm以下の露光において向上した透明度を持つ。
Claim (excerpt):
アクリル樹脂塗膜の形成方法であって、モノマー、該モノマーの重合により形成されるアクリレートポリマー、及び反応混合物の中で使用される添加剤を溶解できる溶媒の中に、1種以上のアクリレートモノマーを溶解する工程、有機ラジカル開始剤の存在で該溶解されたアクリレートモノマーを加熱して該アクリレートモノマーを重合する工程、並びに、該反応溶液から該アクリレートポリマーを回収することなく反応混合物を表面にキャスティングする工程、の各工程から成ることを特徴とするアクリル樹脂塗膜の形成方法。
IPC (3):
G03F 7/027 502 ,  C09D 4/06 ,  G03F 7/004 501
FI (3):
G03F 7/027 502 ,  C09D 4/06 ,  G03F 7/004 501

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