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J-GLOBAL ID：200903066952299553
熱処理炉ボート
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992158324
Publication number (International publication number)：1994005530
Application date： Jun. 17, 1992
Publication date： Jan. 14, 1994
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 非酸化性雰囲気の熱処理炉内で半導体基板を熱処理を行っても、熱処理される半導体基板の周辺に微細なキズの発生を防止できる熱処理炉ボートを提供する。【構成】 非酸化性雰囲気の熱処理炉1内で半導体基板10を熱処理するため半導体基板10を載置する熱処理炉ボート4であって、この熱処理炉ボート4を構成するボート構成材13、20は表層16と内部層15の少なくとも2層からなり、表層16は熱処理される半導体基板10の硬度より低い硬度を有することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
非酸化性雰囲気の熱処理炉内で半導体基板を熱処理するため半導体基板を載置する熱処理炉ボートであって、この熱処理炉ボートを構成するボート構成材は表層と内部層の少なくとも2層からなり、前記表層は熱処理される半導体基板の硬度より低い硬度を有することを特徴とする熱処理炉ボート。
IPC (3)：
H01L 21/22
, C30B 35/00
, H01L 21/324
