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J-GLOBAL ID：200903066961453620

ガス希釈装置

Inventor： 有田 佳彦
Applicant, Patent owner： 株式会社堀場製作所
Agent (1)： 藤本 英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001034214
Publication number (International publication number)：2002243599
Application date： Feb. 09, 2001
Publication date： Aug. 28, 2002
Summary：

【要約】【課題】 高純度な希釈ガスや高価な流量制御装置を用いなくとも、成分ガスを無段階に任意の希釈倍率にしかも精度よく希釈することができるガス希釈装置を提供すること。【解決手段】 希釈対象の成分ガスCGが供給されるガス流路5に第1および第2のガス濃度測定器8,11を設けるとともに、これらのガス濃度測定器8,11の間にガス吸着管12を設け、前記二つのガス濃度測定器8,11の出力の比a2 /a1 を演算し、この演算結果に基づいて前記ガス吸着管12の温度調節を行ってガス吸着管12における前記成分ガスCGの吸着量の制御を行うようにした。

Claim (excerpt)：

希釈対象の成分ガスが供給されるガス流路に第1および第2のガス濃度測定器を設けるとともに、これらのガス濃度測定器の間にガス吸着管を設け、前記二つのガス濃度測定器の出力の比を演算し、この演算結果に基づいて前記ガス吸着管の温度調節を行ってガス吸着管における前記成分ガスの吸着量の制御を行うようにしたことを特徴とするガス希釈装置。

IPC (6)：

G01N 1/22 ,  G01N 1/00 101 ,  G01N 5/02 ,  G01N 27/62 ,  G01N 29/02 ,  G01N 30/06

FI (7)：

G01N 1/22 M ,  G01N 1/22 L ,  G01N 1/00 101 S ,  G01N 5/02 A ,  G01N 27/62 F ,  G01N 29/02 ,  G01N 30/06 C

F-Term (4)：

2G047AA01 ,  2G047AD02 ,  2G047BC02 ,  2G047BC15