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J-GLOBAL ID：200903066985987684

逆浸透膜処理方法

Inventor： 田村 真紀夫 ,  真保 明年
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993315708
Publication number (International publication number)：1995163979
Application date： Dec. 16, 1993
Publication date： Jun. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】 シリカの析出を防止しながら被処理水を高回収率で逆浸透膜処理する。【構成】 少くとも硬度成分及びシリカを含有する被処理水を逆浸透膜処理して透過水と濃縮水とに分離する逆浸透膜処理方法において、前記濃縮水のpHを6以下に保って逆浸透膜処理をする。

Claim (excerpt)：

少くとも硬度成分及びシリカを含有する被処理水を逆浸透膜処理して透過水と濃縮水とに分離する逆浸透膜処理方法において、前記濃縮水のpHを6以下に保って逆浸透膜処理をすることを特徴とする逆浸透膜処理方法。

IPC (2)：

C02F 1/44 ,  B01D 61/12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭59-090688
  
• 特開昭62-061691
  
• 特開昭52-149271