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J-GLOBAL ID：200903066986293856

レチクル

Inventor： 伊藤 勝志
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 鈴木 章夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000121054
Publication number (International publication number)：2001296650
Application date： Apr. 17, 2000
Publication date： Oct. 26, 2001
Summary：

【要約】【課題】 矩形パターンを露光するためのレチクルにおいて、露光工程を煩雑化することなく、しかも高精度なパターン露光を可能にしたレチクルを提供する。【解決手段】 第1の透明基板101の表面に光透過率の低い材料で第1のパターン102が形成された第1基板100と、第2の透明基板201の表面に所要の光透過率の材料で第2のパターン202が形成された第2基板200とを備え、前記第1のパターン102と前記第2のパターン202とを向かい合わせにして前記第1基板100と第2基板200とを接合材料301等により一体化し、前記第1のパターン102と第2のパターン202との重なる矩形パターンPの領域を遮光パターンとして構成する。矩形パターンPの角部は、第1のパターン102と第2のパターン202の辺の交差によって構成されるので、従来のようにレチクルに光不透過膜を用いて矩形パターンを形成する場合のような、パターン寸法の縮小に伴って角部が丸くなるようなこともなく、高精度な矩形パターンのレチクルを得ることができる。

Claim (excerpt)：

第1の透明基板の表面に光透過率の低い材料で第1のパターンが形成された第1基板と、第2の透明基板の表面に所要の光透過率の材料で第2のパターンが形成された第2基板とを備え、前記第1のパターンと前記第2のパターンとを向かい合わせにして前記第1基板と第2基板とを一体化し、前記第1のパターンと第2のパターンとが重なる領域を遮光パターンとして構成したことを特徴とするレチクル。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 1/08 K ,  H01L 21/30 502 P

F-Term (5)：

2H095BB02 ,  2H095BC09 ,  2H095BC10 ,  2H095BC11 ,  2H095BC28