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J-GLOBAL ID：200903067052665810
スパッタリング装置及び方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
安田 敏雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001303381
Publication number (International publication number)：2003105537
Application date： Sep. 28, 2001
Publication date： Apr. 09, 2003
Summary：
【要約】【課題】 アーク放電を抑制してイオン化に優れたプラズマを供給できるようにしたスパッタリング装置及び方法を提供すること。【解決手段】 スパッタ蒸発源にパルス状に電力を供給する電源供給装置を備えたスパッタリング装置において、前記電源供給装置は、パルス状の放電電流を正弦半波状波形で与えると共に、スパッタ蒸発源表面の実効的な放電発生エリアSでのパルス中の放電電流のピーク値Ipとパルス放電時間Tとが、T<10μsec、Ip/S>1A/cm<SP>2</SP>、となるように供給電力を制御するものである。
Claim (excerpt)：
スパッタ蒸発源にパルス状に電力を供給する電源供給装置を備えたスパッタリング装置において、前記電源供給装置は、パルス状の放電電流を正弦半波状波形で与えると共に、スパッタ蒸発源表面の実効的な放電発生エリアSでのパルス中の放電電流のピーク値Ipとパルス放電時間Tとが、T<10μsecIp/S>1A/cm<SP>2</SP>となるように供給電力を制御するものであることを特徴とするスパッタリング装置。
IPC (2)：
FI (2)：
C23C 14/34 U
, H01L 21/203 S
4K029CA05
, 4K029DC35
, 4K029EA09
, 5F103AA08
, 5F103BB09
, 5F103BB23
, 5F103BB56
, 5F103DD28
, 5F103RR05
, 5F103RR06
, 5F103RR10
