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J-GLOBAL ID：200903067066507184
プラズマ洗浄法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991224167
Publication number (International publication number)：1993062957
Application date： Sep. 04, 1991
Publication date： Mar. 12, 1993
Summary：
【要約】【目的】 安全で、長時間の洗浄処理でも再汚染もなく、かつ重金属汚染も充分に洗浄しきれる新しいプラズマ洗浄法を提供する。【構成】 プラズマ洗浄法に関し、(1) アルゴンガスまたはヘリュウムガスと水素ガスとの混合ガスをプラズマ化し、該プラズマガスに半導体基板を曝すこと、および(2)ハロゲンガスまたはハロゲン化合物ガスと酸素ガスとの混合ガスをプラズマ化し、該プラズマガスに半導体基板を曝すこと。
Claim (excerpt)：
アルゴンガスまたはヘリュウムガスと水素ガスとの混合ガスをプラズマ化し、該プラズマガスに半導体基板を曝す事を特徴とするプラズマ洗浄法。
IPC (2)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/302
