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J-GLOBAL ID：200903067076210023

新規カチオン化合物及びその製造方法並びにこの化合物からなる界面活性剤

Inventor： 外谷 孝四郎 ,  井元 浩之 ,  久保 誠 ,  大田和 康規
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 古谷 馨 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991196459
Publication number (International publication number)：1993155835
Application date： Aug. 06, 1991
Publication date： Jun. 22, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】 一般式(1) で表わされる新規なカチオン化合物その製法および界面活性剤としての用途を提供する。(1例を次に示す。)【効果】 このカチオン化合物は界面活性能を有し、かかる化合物を主成分とした界面活性剤は起泡力、洗浄力に優れ、且つ低刺激性であるために頭髪洗浄用基剤としてのみでなく、身体洗浄用基剤としても供することができる。

Claim (excerpt)：

一般式(1) で表わされるカチオン化合物。【化1】〔式中、R1:直鎖又は分岐鎖の炭素数7〜15のアルキル基又はアルケニル基を示す。R2,R3,R4:同一又は異なる炭素数1〜3のアルキル基を示す。G :H 又は炭素数1〜3のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基を示す。E :H 、炭素数1〜3のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基、又は式【化2】で表わされる基を示す。但し、G が炭素数1〜3のアルキル基又はヒドロキシアルキル基の場合、E は炭素数1〜3のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基ではない。Y :H 又はヒドロキシ基を示す。A :OH、ハロゲン原子又は炭素数1〜4のアルキル硫酸基を示す。m :2又は3の数を示す。n :0又は1〜5の整数を示す。但し、 n=1の場合は、 Y=H 又はヒドロキシ基を示し、 n=0, 2, 3, 4, 5の場合は Y=H を示す。〕

IPC (6)：

C07C233/36 ,  B01F 17/18 ,  B01F 17/22 ,  C07C231/12 ,  C07C233/38 ,  C11D 1/62