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J-GLOBAL ID：200903067078374180

ギ酸の製造方法

Inventor： 碇屋 隆雄 ,  フィリップ ジー ジェソップ ,  野依 良治
Applicant, Patent owner： 新技術事業団 ,  碇屋 隆雄
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994271535
Publication number (International publication number)：1995173098
Application date： Nov. 04, 1994
Publication date： Jul. 11, 1995
Summary：

【要約】【構成】 第VIII族遷移金属錯体と塩基性物質の存在下に、超臨界状態にある二酸化炭素と水素とを反応させる。【効果】 毒性の低い原料を用い、高い反応速度でのギ酸製造が可能となる。また、溶媒を使用しないため分離操作も容易である。

Claim (excerpt)：

超臨界状態にある二酸化炭素と水素とを反応させることを特徴とするギ酸の製造方法。

IPC (4)：

C07C 53/02 ,  B01J 31/26 ,  C07C 51/00 ,  C07B 61/00 300