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J-GLOBAL ID：200903067105903521

装置状態予測装置及び方法、並びに露光装置管理システム

Inventor： 白石 健一
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (4)： 前田 均 ,  西出 眞吾 ,  大倉 宏一郎 ,  佐藤 美樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003372718
Publication number (International publication number)：2005136326
Application date： Oct. 31, 2003
Publication date： May. 26, 2005
Summary：

【課題】 環境の変動から露光装置等の基板処理装置の装置状態の変動を予測する。【解決手段】 基板処理工場10内には複数の基板処理装置11及び保守管理サーバ13が設けられている。基板処理装置11の各々には、外部及び内部等の環境(気温、湿度、気圧等)を検出する各種のセンサが設けられている。保守管理サーバ13は、予め求めてある環境の変動と各基板処理装置11の装置状態の変動との相関関係を示す関係式と各種センサの検出結果とに基づいて各基板処理装置11の装置状態を予測する。装置状態の予測結果が所定の閾値以上である場合には、警告を発し、又は装置状態が悪化した基板処理装置11に対して装置状態を調整させる制御コマンドを送信する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

基板を処理する基板処理装置の装置状態を予測する装置状態予測装置であって、 前記基板処理装置の環境に関する環境情報を収集する環境情報収集手段と、 前記環境の変動と前記基板処理装置の装置状態の変動との相関関係を示す関係式を記憶する記憶手段と、 前記関係式及び前記環境情報収集手段により収集された前記環境情報に基づいて、前記基板処理装置の装置状態を予測する予測手段と、 前記予測手段の予測結果を予め定められた閾値と比較する比較手段と、 前記比較手段の比較結果に基づいて所定の処理を実行する実行手段と を備えることを特徴とする装置状態予測装置。

IPC (2)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2)：

H01L21/30 502G ,  G03F7/20 521

F-Term (11)：

5F046AA28 ,  5F046BA03 ,  5F046DA02 ,  5F046DA04 ,  5F046DA06 ,  5F046DA07 ,  5F046DA08 ,  5F046DA14 ,  5F046DA26 ,  5F046DA27 ,  5F046DD06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-138490   Applicant：株式会社ニコン