Pat
J-GLOBAL ID:200903067112064730

二次非線形光学材料の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小倉 亘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999256824
Publication number (International publication number):2000310798
Application date: Sep. 10, 1999
Publication date: Nov. 07, 2000
Summary:
【要約】【目的】 有機色素の光吸収がない波長のレーザー光を照射しても第2高調波を生成する二次非線形光学材料を得る。【構成】 二次非線形光学効果をもつ有機色素分子又は該有機色素を側鎖にもつ分子を分散させた薄膜又は化学結合させた薄膜に、パルス幅が30ピコ秒よりも短いパルスレーザーを用い、有機色素の吸収帯が存在しない二つの波長の光束を同軸で同時照射させて光ポーリングする。有機色素分子又は該有機色素分子を側鎖にもつ分子としては、照射するレーザー光よりも短い波長の光で光異性化反応を起こす分子も使用できる。
Claim (excerpt):
二次非線形光学効果をもつ有機色素分子又は該有機色素を側鎖にもつ分子を分散させた材料又は化学結合させた材料に、パルスレーザーを用いて、有機色素の吸収帯が存在しない二つの波長の光束を同軸で同時照射させ光ポーリングすることを特徴とする二次非線形光学材料の製造方法。
F-Term (6):
2K002AB12 ,  2K002CA05 ,  2K002CA06 ,  2K002FA19 ,  2K002FA27 ,  2K002HA20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 超高速光誘起スイッチ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-347276   Applicant:科学技術振興事業団, 杉本直樹, 神原浩久

Return to Previous Page