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J-GLOBAL ID：200903067123726610

ポジ型レジスト組成物とそれを用いた微細パターン形成方法

Inventor： 石井 渡 ,  加藤 真也 ,  松浦 広明 ,  吉本 洋 ,  鈴木 信雄
Applicant, Patent owner： 富士ハントエレクトロニクステクノロジ-株式会社 ,  富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995167530
Publication number (International publication number)：1997015852
Application date： Jul. 03, 1995
Publication date： Jan. 17, 1997
Summary：

【要約】【課題】 従来よりも基板との密着性が高く、エッチングにおける加工精度を向上させ、より微細なパターンを忠実に基板に転写することが可能なレジスト組成物とそれを用いたエッチングの方法による微細パターン形成方法を提供する。【解決手段】 (1) アルカリ可溶性樹脂、(2) キノンジアジド化合物、(3) 有機リン酸化合物、(4) フェニレンジアミン化合物およびその誘導体、2-アミノ-1-フェニルエタノール、N-フェニルジエタノ-ルアミン、N-フェニルエタノールアミン、N-エチルジエタノールアミン、N-エチルエタノールアミンおよびその誘導体のうち少なくとも1種類を含む。

Claim (excerpt)：

(1)アルカリ可溶性樹脂(2)キノンジアジド化合物(3)有機リン酸化合物(4)フェニレンジアミン化合物およびその誘導体、2-アミノ-1-フェニルエタノール、N-フェニルジエタノ-ルアミン、N-フェニルエタノールアミン、N-エチルジエタノールアミン、N-エチルエタノールアミンおよびその誘導体のうち少なくとも1種類を含むことを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/30 502 R