高周波加熱装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：滝本智之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998065016
Publication number (International publication number)：1999260543
Application date： Mar. 16, 1998
Publication date： Sep. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は高周波加熱装置に関するもので、マイクロ波を被加熱物に照射するとき、より均一に加熱されることを課題とする。【解決手段】加熱室14と電磁波発生手段11と被加熱物16と被加熱物支持台17から構成してある。被加熱物支持台17は一部が電磁波吸収体18となっている.従って、被加熱物16だけでなく被加熱物支持台17の電磁波吸収体18にも電磁波が吸収され、その電磁波のエネルギーが被加熱物16の温度上昇の低い箇所へ伝導されることにより、加熱の不均一さを低減することができる。

Claim (excerpt)：

導体で囲まれた加熱室と、前記加熱室に電磁波を供給するための電磁波発生手段と、前記電磁波発生手段から放射される電磁波を前記加熱室に導く導波管と、前記加熱室と前記導波管との接続部に設けられた開口部と、一部が電磁波吸収体となっている被加熱物を設置する被加熱物支持台とからなる高周波加熱装置。

IPC (3)：

H05B 6/74 , F24C 7/02 511 , F24C 7/02 551

FI (3)：

H05B 6/74 A , F24C 7/02 511 B , F24C 7/02 551 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

マイクロ波解凍加熱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-028531 Applicant：新日本無線株式会社
特開平4-263705
特開平3-043990

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