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J-GLOBAL ID：200903067138978187

研磨用組成物

Inventor： 児玉 一志 ,  岩沙 昭二
Applicant, Patent owner： 株式会社フジミインコーポレーテッド
Agent (1)： 佐々木 宗治 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994021197
Publication number (International publication number)：1995228863
Application date： Feb. 18, 1994
Publication date： Aug. 29, 1995
Summary：

【要約】【目的】 シリコン基板上に形成された各種酸化膜の層間絶縁膜を、高能率かつ高品質で平坦化することのできる研磨用組成物を得ること。【構成】 本発明に係る研磨用組成物は、水と研磨材及び研磨促進剤からなり、研磨促進剤がヒドラジン化合物からなるものである。

Claim (excerpt)：

水と研磨材及び研磨促進剤からなり、前記研磨促進剤がヒドラジン化合物からなることを特徴とする研磨用組成物。

IPC (3)：

C09K 3/14 550 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 321