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J-GLOBAL ID：200903067223273826

テキスタイルの清浄化方法

Inventor： メイ ウォン ピン ,  ウー ピーター エス. ,  チァン サミュエル エヌ.
Applicant, Patent owner： ダウ コーニング タイワン インコーポレイティド
Agent (1)： 石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999285388
Publication number (International publication number)：2000119690
Application date： Oct. 06, 1999
Publication date： Apr. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】 テキスタイルから任意の油状及び/又は油脂状の汚れを除去する方法を提供すること。【解決手段】 無機塩基化合物の存在下、式:【化1】(式中、nは1〜7の整数である)により表される低分子量線状シロキサンとカチオン界面活性剤を含む組成物を汚れたテキスタイルに適用し、そのテキスタイルが劣化する温度よりも低い温度に加熱することを含むテキスタイルの清浄化方法。

Claim (excerpt)：

無機塩基化合物の存在下、式:【化1】(式中、nは1〜7の整数である)により表される低分子量線状シロキサンとカチオン界面活性剤を含む組成物を汚れたテキスタイルに適用し、そしてそのテキスタイルが劣化する温度よりも低い温度に加熱することを含むテキスタイルの清浄化方法。

IPC (6)：

C11D 3/20 ,  B08B 3/08 ,  C11D 1/62 ,  C11D 1/72 ,  C11D 3/04 ,  C11D 3/43

FI (6)：

C11D 3/20 ,  B08B 3/08 Z ,  C11D 1/62 ,  C11D 1/72 ,  C11D 3/04 ,  C11D 3/43