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J-GLOBAL ID：200903067242240343

ホウ素拡散用塗布液

Inventor： 萩原 嘉男 ,  佐藤 功 ,  平山 晴子 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 服部 平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995350729
Publication number (International publication number)：1997181010
Application date： Dec. 26, 1995
Publication date： Jul. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】毒性が少なく、安全である上に、ホウ素を拡散した半導体デバイスの抵抗値にバラツキを発生させないホウ素拡散用塗布液を提供することを目的とする。【構成】(a)ホウ素化合物、(b)アルコール性水酸基含有高分子化合物、(c)プロピレングリコール誘導体溶剤及び(d)非イオン性界面活性剤を含有することを特徴とするホウ素拡散用塗布液。

Claim (excerpt)：

(a)ホウ素化合物、(b)アルコール性水酸基含有高分子化合物、(c)プロピレングリコール誘導体溶剤及び(d)非イオン性界面活性剤を含有することを特徴とするホウ素拡散用塗布液。