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J-GLOBAL ID：200903067271317029

高輝度X線源

Inventor： 高山 透
Applicant, Patent owner： 住友金属工業株式会社
Agent (1)： 森 道雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000108847
Publication number (International publication number)：2001297726
Application date： Apr. 11, 2000
Publication date： Oct. 26, 2001
Summary：

【要約】【課題】簡易に高輝度X線ビームが得られるX線源を提供する。【解決手段】電子線源1と、電子線3が照射される一次ターゲット4を備え、一次ターゲットの電子線照射位置に対してX線を取り出す方向と反対側に、一次ターゲットを構成する物質と同じ物質からなる二次ターゲット7を備えるX線源。

Claim (excerpt)：

電子線源と、電子線が照射されるターゲットを備えるX線源であって、前記ターゲットの電子線照射位置に対してX線を取り出す方向と反対側に、前記ターゲットを構成する物質と同じ物質からなる二次ターゲットを備えることを特徴とする高輝度X線源。

IPC (5)：

H01J 35/08 ,  G21K 5/08 ,  H05G 1/00 ,  G01N 23/207 ,  G01N 23/223

FI (6)：

H01J 35/08 B ,  H01J 35/08 C ,  G21K 5/08 X ,  G01N 23/207 ,  G01N 23/223 ,  H05G 1/00 E

F-Term (19)：

2G001AA01 ,  2G001AA03 ,  2G001AA10 ,  2G001BA04 ,  2G001BA05 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001GA01 ,  2G001GA13 ,  2G001JA01 ,  2G001JA20 ,  2G001RA03 ,  2G001SA07 ,  4C092AA01 ,  4C092AB12 ,  4C092AB21 ,  4C092AC08 ,  4C092BD05 ,  4C092BD19