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J-GLOBAL ID：200903067271829674

荷電粒子ビーム散乱システム

Inventor： モイヤーズ,マイケル エフ. ,  シーバース,ジェフリー ヴィ.
Applicant, Patent owner： モイヤーズ,マイケル エフ. ,  シーバーズ,ジェフリー ヴィ.
Agent (1)： 藤野 清也 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1995503666
Publication number (International publication number)：1996511978
Application date： Jul. 01, 1994
Publication date： Dec. 17, 1996
Summary：

【要約】放射線治療装置は、粒子ビームを発生するための、荷電粒子、好ましくは陽子の供給源と、荷電粒子ビームの直径を変えるための散乱箔とを備える。散乱箔の厚さが均一で、厚さの範囲にわたって連続して調整できるように、散乱箔が構成される。

Claim (excerpt)：

荷電粒子ビームを供給する荷電粒子源と、 粒子ビームの経路中にあり、粒子ビームの直径を変えるための散乱箔とを備え、 前記ビームが、ビーム遮断部分で前記散乱箔を透過し、前記散乱箔が、前記散乱箔の前記ビーム遮断部においてある厚さを有し、前記散乱箔が、前記ビーム遮断部における前記厚さをある厚さ範囲にわたって連続的に調整できるように構成され、前記散乱箔の厚さが前記ビーム遮断部を通じて前記厚さ範囲にわたって均一である、放射線治療装置。

FI (2)：

A61N 5/10 N ,  A61N 5/10 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-292970
  
• 特開昭63-249578