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J-GLOBAL ID：200903067272151078

配向積層膜とその製造方法及びそれを用いた有機電子素子とその製造方法

Inventor： 脇田 克也 ,  川上 哲司 ,  園田 信雄
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 池内 寛幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994009074
Publication number (International publication number)：1995221367
Application date： Jan. 31, 1994
Publication date： Aug. 18, 1995
Summary：

【要約】【目的】 導電性オリゴマーを電子素子に用いるにあたってその結晶配向性を高め、キャリヤーの移動度を高くした配向積層膜とこの配向積層膜を用いて有機電子素子を得る。【構成】 シリコン基板11の上に厚さ約500nmのゲート絶縁層12を形成し、その上にフッ素系ポリマーをスピンコーティング法にて均一に塗布し、厚さ約5μmのフッ素系ポリマー層13を作製する。ラビング装置14にてポリマー層13をラビング処理し配向膜とする。ポリマー配向膜13上に、真空蒸着装置にてクロム及び金から構成される櫛形のソース及びドレイン電極15を設ける。電極15上及び電極間に、厚さ約50nmの導電性オリゴマー層16を気相からの蒸着法または溶液からのキャスト法にて形成し、配向積層膜17とする。基板11の素子が形成されていない側を研磨し、表面層をはぎ取った後に基板自身をゲート電極18とする。

Claim (excerpt)：

溶剤可溶性フッ素系無定形ポリマー配向膜上に導電性オリゴマー層が積層されている配向積層膜。

IPC (3)：

H01L 51/00 ,  H01L 29/786 ,  C09D127/12 PFG

FI (2)：

H01L 29/28 ,  H01L 29/78 311 B