Pat
J-GLOBAL ID：200903067274161100

ノルボルナン系含フッ素化合物および感放射線性樹脂組成物

Inventor：
千葉 隆

About 千葉 隆

, 
林 明弘

About 林 明弘

, 
下川 努

About 下川 努


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003275425
Publication number (International publication number)：2005035941
Application date： Jul. 16, 2003
Publication date： Feb. 10, 2005
Summary：
【課題】 ArFエキシマレーザー等に代表される遠紫外線等に感応する化学増幅型レジストの添加剤成分として、放射線に対する透明性、感度、解像度、パターン形状等の基本物性を損なわずに、パターン表面の平滑性に優れ、かつ基板上でのパターン倒れが改善された化学増幅型レジストをもたらしうる新規なノルボルナン系含フッ素化合物、並びに当該化合物を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)で表される化合物。 【化1】〔式中、R1 およびR2 は水素原子、ヒドロキシル基、(チオ)アルコキシル基等を示し、R3 は水素原子または1価の酸解離性基を示し、nは0または1である。〕 感放射線性樹脂組成物は、前記化合物以外に、(A)酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解性が増大するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂および(B)感放射線性酸発生剤を含有する。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)で表される化合物。
IPC (6)：
C07C31/44 ,  C07C33/44 ,  C07C35/52 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (6)：
C07C31/44 ,  C07C33/44 ,  C07C35/52 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (18)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA14 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CC20 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006FC36 ,  4H006FE11 ,  4H006FE12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 特公平2-27660号公報
Cited by examiner (7)
Show all
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM