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J-GLOBAL ID：200903067279663490

マイクロ波放電反応装置

Inventor： 池田 圭
Applicant, Patent owner： 日電アネルバ株式会社
Agent (1)： 田宮 寛祉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991217361
Publication number (International publication number)：1993345990
Application date： Aug. 28, 1991
Publication date： Dec. 27, 1993
Summary：

【要約】【目的】 マイクロ波放電反応装置において、基板の処理能力を高くし、低コストの製造を可能とし、更に小形且つコンパクトな装置とする。【構成】 内部を減圧状態に保持する機構とガスを導入する機構を備える真空容器と、同軸線路により供給されたマイクロ波を真空容器内に放射する所定の長さと幅のスリットを少なくとも1本有する平板状の電極と、電極と中心を共有する同心円状の位置であって、その磁場方向が電極と垂直になるように電極の近傍位置に配置され、スリットの長さ方向と同じ方向の磁場を発生する複数のリング状の磁場発生手段とを備え、電極と磁場発生手段との組合せでプラズマ発生機構を構成し、プラズマ発生機構を、少なくとも2つ、前記電極を互いに対向するように配設し、各電極の中間に基板保持機構が配設され、電極のそれぞれに対向する基板保持機構の各面に基板が保持され、各面の周囲空間にプラズマが生成されるように構成する。

Claim (excerpt)：

内部を減圧状態に保持する機構とガスを導入する機構を備える真空容器と、同軸線路により供給されたマイクロ波を前記真空容器内に放射する所定の長さと幅のスリットを少なくとも1本有する平板状電極と、前記電極と中心を共有する同心円状の位置であって、その磁場方向が前記電極の面に対し垂直になるように前記電極の近傍位置に配置され、前記スリットの長さ方向と同じ方向の磁場を発生する複数の筒状の磁場発生手段とを備え、前記電極と前記磁場発生手段との組合せでプラズマ発生機構を構成し、2つの前記プラズマ発生機構を1組として少なくとも1組のプラズマ発生機構を、それぞれの前記電極が互いに対向するように配設し、前記各電極の中間に基板保持機構が配設され、前記電極のそれぞれに対向する前記基板保持機構の各面に基板が保持され、前記各面の周囲空間にプラズマが生成されることを特徴とするマイクロ波放電反応装置。

IPC (6)：

C23F 4/00 ,  C23C 14/35 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46