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J-GLOBAL ID:200903067285950298

アルカリ現像可能な一液型フォトソルダーレジスト組成物及びそれを用いたプリント配線板の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): ▲吉▼田 繁喜
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995161548
Publication number (International publication number):1996335767
Application date: Jun. 06, 1995
Publication date: Dec. 17, 1996
Summary:
【要約】【目的】 耐熱性、密着性、耐無電解めっき性、電気特性等に優れた硬化膜が得られるアルカリ現像可能な一液型フォトソルダーレジスト組成物及びプリント配線板の製造方法を提供する。【構成】 組成物は(A)1分子内に少なくとも1つ以上の遊離のカルボキシル基を有する共重合系高分子化合物又は(A’)1分子内に少なくとも1つ以上の遊離のカルボキシル基と1つ以上の光反応性不飽和基を併せ持つ室温で固形状の共重合系高分子化合物、(B)希釈剤としての室温で液状の多官能不飽和化合物及び/又は有機溶剤、(C)光重合開始剤、(D)ビニルトリアジン化合物又はその誘導体及び(E)無機フィラーを含有する。この組成物を回路形成されたプリント配線板表面に塗布、乾燥し、次いで所定の露光パターン通りに選択的に露光し、未露光部をアルカリ水溶液で現像してレジストパターンを形成し、その後、活性エネルギー線を照射して仕上げ硬化させる。
Claim (excerpt):
(A)1分子内に少なくとも1つ以上の遊離のカルボキシル基を有する共重合系高分子化合物、(B)希釈剤としての室温で液状の多官能不飽和化合物及び有機溶剤、(C)光重合開始剤、(D)ビニルトリアジン化合物又はその誘導体、及び(E)無機フィラーを含むことを特徴とするアルカリ現像可能な一液型フォトソルダーレジスト組成物。
IPC (7):
H05K 3/28 ,  C08F 2/44 MCQ ,  C08F 2/50 MCT ,  C08F 2/50 MDN ,  C09D151/00 PGX ,  C09D201/02 JAU ,  G03F 7/038
FI (7):
H05K 3/28 D ,  C08F 2/44 MCQ ,  C08F 2/50 MCT ,  C08F 2/50 MDN ,  C09D151/00 PGX ,  C09D201/02 JAU ,  G03F 7/038

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