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J-GLOBAL ID：200903067289538162

レジスト用重合体および化学増幅型レジスト組成物

Inventor： 藤原 匡之 ,  桑野 英昭 ,  脇阪 幸也 ,  加門 良啓
Applicant, Patent owner： 三菱レイヨン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001338138
Publication number (International publication number)：2003140346
Application date： Nov. 02, 2001
Publication date： May. 14, 2003
Summary：

【要約】【課題】 DUVエキシマレーザーリソグラフィー、電子線リソグラフィー等のリソグラフィーにおいて、より高い解像度が得られるレジスト用(共)重合体および化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用(共)重合体であって、ラクトン環上に(メタ)アクリロイルオキシ基を含む置換基以外の置換基を有していてもよいγ-ブチロラクトン環を有する(メタ)アクリレートの光学活性体等の光学活性なラクトン骨格を有する単量体を単独重合またはその他の単量体と共重合して得られるレジスト用(共)重合体。

Claim (excerpt)：

酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用(共)重合体であって、光学活性なラクトン骨格を有する単量体を単独重合またはその他の単量体と共重合して得られるレジスト用(共)重合体。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/26 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/26 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (21)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA11P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC37Q ,  4J100BC53P ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平4-173812
  
• 光学活性なカルバメ-ト基を有するイソシアナ-トの重合体およびその製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-034467   Applicant：ダイセル化学工業株式会社