Pat
J-GLOBAL ID：200903067297513179
絶縁被膜形成用塗布液
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992010800
Publication number (International publication number)：1994256720
Application date： Jan. 24, 1992
Publication date： Sep. 13, 1994
Summary：
【要約】【目的】大気中の水分に対して安定であり、かつ、腐食性の酸を含有せず、比較的低温で良好な絶縁被膜を形成する塗布液を提供する。【構成】アセチルアセトン残基の含有量が〔(Tiのモル数)×4+(Siのモル数)×4≧アセチルアセトン残基のモル数≧(Tiのモル数)×2+(Siのモル数)×1〕であるTiおよびSiを含むポリメタロキサンキレ-ト化合物のアルコール溶液。
Claim (excerpt)：
構造単位が一般式(1)【化1】および一般式(2)【化2】(式中、R1 〜R4 はそれぞれ同一あるいは異なって、C1 〜C8 のアルコキシ基またはアセチルアセトン残基を表す)からなり、アセチルアセトン残基の含有量が〔(Tiのモル数)×4+(Siのモル数)×4≧アセチルアセトン残基のモル数≧(Tiのモル数)×2+(Siのモル数)×1〕であるポリメタロキサンキレ-ト化合物のアルコ-ル溶液(C3 〜C8 のアルキル基を有する)からなることを特徴とする絶縁被膜形成用塗布液。
IPC (4)：
C09D185/00 PMW
, C09D 1/00 PCJ
, C09D 5/25
, C09D183/06 PMS
Cited by examiner (8)
Show all
Return to Previous Page
