Pat

J-GLOBAL ID：200903067298271608

発光解析方法及びその装置

Inventor： 嶋瀬 朗 ,  石川 誠二 ,  真島 敏幸
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000142289
Publication number (International publication number)：2001319952
Application date： May. 10, 2000
Publication date： Nov. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】オートプローバを装備した発光顕微鏡により発光のウェハマップを作成する際、発光スペクトル情報も併せて取得し、マップ内の情報に加えることで、マップ情報の充実を図り、解析ポイントの選択を支援すると共に、次工程での解析手法選択の指針を得る。【解決手段】ダイクロイックミラーにより波長を分離してそれぞれの波長の発光像をCCDカメラで取り込み、それらを合成する方式等により、発光ウェハマップ取得時にスペクトル情報も収集するシステムを組み、スペクトルデータを一定のアルゴリズムに従い、色情報等でディスプレイに表示する。

Claim (excerpt)：

回路パターンを形成した半導体ウェハの発光を検出し、該発光した点のスペクトル情報を取得し、該半導体ウェハの各チップの発光点をマッピングして発光点の分布に各発光点のスペクトル情報を加えて表示し、発光分布状態を解析することを特徴とする発光解析方法。

IPC (2)：

H01L 21/66 ,  G01N 21/956

FI (2)：

H01L 21/66 A ,  G01N 21/956 A

F-Term (26)：

2G051AA51 ,  2G051AA61 ,  2G051AB06 ,  2G051CA04 ,  2G051CC07 ,  2G051CC09 ,  2G051CC12 ,  2G051DA05 ,  2G051EA12 ,  2G051EA17 ,  2G051ED21 ,  2G051FA01 ,  4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106BA01 ,  4M106BA14 ,  4M106CA50 ,  4M106CA70 ,  4M106DA15 ,  4M106DH12 ,  4M106DH37 ,  4M106DH38 ,  4M106DH50 ,  4M106DJ02 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ38