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J-GLOBAL ID：200903067311855541

露光方法および露光装置

Inventor： 老泉 博昭 ,  片桐 創一 ,  伊東 昌昭 ,  小川 太郎 ,  山梨 弘将
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997006111
Publication number (International publication number)：1998208999
Application date： Jan. 17, 1997
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】遠紫外ないしX線領域の光を用いたパターン露光方法および装置で、ウェハ上の照度分布の均一性を高め、かつ露光強度を高める。【解決手段】長波長光フィルタを複数種類の膜からなる複合膜で形成して薄膜化を可能とし、また所定の光学系を配置して露光ビームが通過するフィルタの領域を小さくする。

Claim (excerpt)：

少なくとも遠紫外領域,真空紫外線領域,極紫外線領域または軟X線領域のビームを放射する光源を用いて、所定のパターンが形成されている第一の光学素子を照明し、前記第一の光学素子に描かれている前記パターンを、結像光学系を介して、ある基板上に縮小転写する投影露光法において、前記第一の光学素子に照明する前に、前記ビームの光軸上に、複数種類の材料で構成された膜を置くことを特徴とする露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 531 E ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 531 A