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J-GLOBAL ID：200903067315731758

水性塗料の塗布方法および画像形成方法

Inventor： 山根 浩 ,  小寺 薫雄 ,  坪井 當昌 ,  立薗 信一
Applicant, Patent owner： 東洋紙業株式会社 ,  日立粉末冶金株式会社
Agent (1)： 前島 肇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993347830
Publication number (International publication number)：1995191214
Application date： Dec. 26, 1993
Publication date： Jul. 28, 1995
Summary：

【要約】【目的】 耐薬品性、耐水性、耐熱性、基板に対する密着性などが良好で、かつ低反射性の塗膜が得られる遮光パターン形成用塗料を、安全性および衛生面に優れた方法により、均一にポジ型フォトレジストパターンの上に塗布すること、および同パターンのリフトオフにより水性塗料のシャープな微細パターンを形成することを目的とする。【構成】 ポジ型フォトレジストのパターンを基板上に形成し、次いで電磁放射線を一様に照射した後に、水性塗料を均一に塗布すること、およびポジ型フォトレジストをアルカリ性の水溶液によって溶解剥離(リフトオフ)することによって水性塗料の微細なパターンを形成する。

Claim (excerpt)：

ポジ型フォトレジストを用いて基板上にパターンを形成し、さらに電磁放射線を照射した後に、水性塗料を塗布することを特徴とする水性塗料の塗布方法。

IPC (2)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505