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J-GLOBAL ID：200903067341049949

レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法

Inventor： 北村 芳隆
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 柏谷 昭司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996008827
Publication number (International publication number)：1997197650
Application date： Jan. 23, 1996
Publication date： Jul. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】 レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法に関し、選択エッチング性、低屈折率性、及び、マスクの洗浄工程における耐薬品性の全てにおいて優れた特性を有するエッチングストップ層を提供する。【解決手段】 支持基板1上に酸化珪素と酸化タンタルの混合膜からなるエッチングストップ層2を介して、誘電体膜からなる位相シフター3を設ける。

Claim (excerpt)：

支持基板上に酸化珪素と酸化タンタルの混合膜からなるエッチングストップ層を介して、誘電体膜からなる位相シフターを設けたことを特徴とするレベンソン型位相シフトマスク。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (4)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528 ,  H01L 21/302 J