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J-GLOBAL ID：200903067382386976
錫めっき及び錫-鉛合金めっき用非酸性浴、及び該めっき浴を用いためっき方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中村 稔 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996085369
Publication number (International publication number)：1997272995
Application date： Apr. 08, 1996
Publication date： Oct. 21, 1997
Summary：
【要約】【課題】 被めっき物のセラミック部分が侵食することがなく、かつ本来めっきされるべき部分にのみ錫めっき又は錫-鉛合金めっきを施こすことができる錫めっき浴または錫-鉛合金めっき浴を提供すること。【解決手段】 第一錫源(及び鉛源)、これとキレートを形成するための錯化剤とを含有し、浴中の無機陰イオンの合計含有量が1.5モル/l以下であり、陽イオンとして(a)アルカリ金属イオン及び/又はアルカリ土類金属イオンと(b)アンモニウムイオン及び/又は有機アミンイオンとを含有し、陽イオン(a)/(b)が1/5〜5/1(モル比)の範囲にあり、かつ、浴のpHが7〜14の範囲にある錫めっき浴又は錫-鉛めっき浴。
Claim (excerpt)：
第一錫源、これとキレートを形成するための錯化剤とを含有し、浴中の無機陰イオンの合計含有量が1.5モル/l以下であり、陽イオンとして(a)アルカリ金属イオン及び/又はアルカリ土類金属イオンと(b)アンモニウムイオン及び/又は有機アミンイオンとを含有し、陽イオン(a)/(b)が1/5〜5/1(モル比)の範囲にあり、かつ、浴のpHが7〜14の範囲にあることを特徴とする錫めっき浴。
IPC (2)：
FI (2)：
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