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J-GLOBAL ID：200903067400599036

人工格子膜

Inventor： 奥野 志保 ,  猪俣 浩一郎
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 則近 憲佑
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993042867
Publication number (International publication number)：1994260336
Application date： Mar. 03, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明はキュリ-点が高く、磁化の大きさや磁気異方性の大きさ・向きを制御できる人工格子膜を提供することを目的とする。【構成】 本発明の人工格子膜は、希土類金属層が、bcc構造の非強磁性金属からなる中間層を介して、強磁性を示す3d遷移金属あるいはその化合物からなる強磁性層と積層された構造を有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

希土類金属層が、bcc構造の非強磁性金属からなる中間層を介して、強磁性を示す3d遷移金属あるいはその化合物からなる強磁性層と積層された構造を有することを特徴とする人工格子膜。

IPC (3)：

H01F 10/14 ,  H01F 10/30 ,  H01F 41/20