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J-GLOBAL ID:200903067431669032

金属微粒子担持カーボンナノファイバーの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 山下 昭彦 ,  岸本 達人 ,  星野 哲郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007310550
Publication number (International publication number):2009133037
Application date: Nov. 30, 2007
Publication date: Jun. 18, 2009
Summary:
【課題】本発明は、金属微粒子が高分散で担持され、金属微粒子のシンタリングを抑制できる金属微粒子担持カーボンナノファイバーの製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、窒素元素を有しカーボンナノファイバーを形成可能な窒素含有ポリマー、および有機金属化合物を含有する原料組成物を、エレクトロスピニング法により、上記窒素元素がカーボンナノファイバーに残留し、かつ、カーボンナノファイバーを形成可能な条件で紡糸する紡糸工程を有することを特徴とする金属微粒子担持カーボンナノファイバーの製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
窒素元素を有しカーボンナノファイバーを形成可能な窒素含有ポリマー、および有機金属化合物を含有する原料組成物を、エレクトロスピニング法により、前記窒素元素がカーボンナノファイバーに残留し、かつ、カーボンナノファイバーを形成可能な条件で紡糸する紡糸工程を有することを特徴とする金属微粒子担持カーボンナノファイバーの製造方法。
IPC (9):
D01F 9/22 ,  C01B 31/02 ,  B01J 27/24 ,  B01J 35/06 ,  B01J 37/34 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/00 ,  H01B 13/00 ,  D04H 1/72
FI (9):
D01F9/22 ,  C01B31/02 101F ,  B01J27/24 M ,  B01J35/06 L ,  B01J37/34 ,  B01J35/02 H ,  B01J37/00 A ,  H01B13/00 501Z ,  D04H1/72 C
F-Term (71):
4G146AA07 ,  4G146AA16 ,  4G146AB06 ,  4G146AD24 ,  4G146AD35 ,  4G146BA15 ,  4G146BA16 ,  4G146BB04 ,  4G146BB05 ,  4G146BC03 ,  4G146BC23 ,  4G146BC32B ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169BA21C ,  4G169BA22C ,  4G169BA27C ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC66C ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC67C ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169BC68C ,  4G169BE11C ,  4G169BE13C ,  4G169BE18C ,  4G169CC32 ,  4G169DA05 ,  4G169EA03X ,  4G169EA03Y ,  4G169EB19 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB04 ,  4G169FB34 ,  4G169FB36 ,  4G169FB58 ,  4G169FB67 ,  4G169FC02 ,  4L037CS03 ,  4L037FA02 ,  4L037PA53 ,  4L037PF08 ,  4L037PS03 ,  4L037PS11 ,  4L037UA04 ,  4L047AA03 ,  4L047AA17 ,  4L047AA29 ,  4L047AB08 ,  4L047CC12 ,  4L047EA22 ,  5H018AA03 ,  5H018BB01 ,  5H018BB06 ,  5H018BB08 ,  5H018DD05 ,  5H018DD08 ,  5H018EE02 ,  5H018EE05 ,  5H018EE16 ,  5H018EE17 ,  5H018HH00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (2)

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