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J-GLOBAL ID：200903067447487910

磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体

Inventor：
諏訪 孝裕

About 諏訪 孝裕

, 
高井 充

About 高井 充

, 
服部 一博

About 服部 一博


Applicant, Patent owner：
TDK株式会社

About TDK株式会社


Agent (3)： 松山 圭佑 ,  高矢 諭 ,  牧野 剛博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003086019
Publication number (International publication number)：2004295989
Application date： Mar. 26, 2003
Publication date： Oct. 21, 2004
Summary：
【課題】面記録密度が高く、且つ、記録・読取精度が良い磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体を提供する。【解決手段】連続記録層と第1のマスク層34との間に中間保護膜24Aを形成し、連続記録層の分割後、分割記録要素20上の中間保護膜24Aを残しつつ第1のマスク層34を除去するようにした。又、分割記録要素20間の隙間部26を非磁性体28で充填してから第1のマスク層34を除去するようにした。【選択図】 図7
Claim (excerpt)：
基板表面上に連続記録層を形成する連続記録層形成工程と、前記連続記録層上に中間保護層を形成する中間保護層形成工程と、前記中間保護層上にマスク層を形成するマスク層形成工程と、前記マスク層と共に前記中間保護層を所定のパターンで部分的に除去するマスク層加工工程と、前記連続磁性層における前記マスク層から露出する部分を除去し、該連続磁性層を前記所定のパターンで多数の分割記録要素に分割する連続記録層加工工程と、前記分割記録要素上に前記中間保護層を残しつつ該中間保護層上のマスク層を除去するマスク層除去工程と、を含み、且つ、前記連続記録層加工工程と、前記マスク層除去工程と、をこの順で実行するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (3)：
G11B5/84 ,  G11B5/65 ,  G11B5/72
FI (4)：
G11B5/84 Z ,  G11B5/84 B ,  G11B5/65 ,  G11B5/72
F-Term (17)：
5D006AA02 ,  5D006AA05 ,  5D006AA06 ,  5D006BB07 ,  5D006CA03 ,  5D006CA05 ,  5D006CA06 ,  5D006DA03 ,  5D006EA00 ,  5D112AA05 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112BB01 ,  5D112BC05 ,  5D112FA04 ,  5D112GA09 ,  5D112GA20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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