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J-GLOBAL ID：200903067461802152

投影露光装置

Inventor： 森 鉄也 ,  篠永 浩彦 ,  村上 栄一
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001103328
Publication number (International publication number)：2001338871
Application date： Jun. 04, 1992
Publication date： Dec. 07, 2001
Summary：

【要約】【課題】 レチクルとウエハとの位置合わせを高速でしかも高精度に行うことができる投影露光装置を得ること。【解決手段】露光光で照明されたレチクルに形成されたパターンを投影レンズを介してウエハ面上に投影露光する投影露光装置において、該ウエハ面に設けた格子状マークを照明手段からの単色光で該投影レンズを介して照明し、該格子状マークからの反射回折光を該投影レンズを通過させた後、該投影レンズに対して該格子状マークと略共役な位置に反射面を配置した反射部材で露光光路外に導光し、該反射回折光のうち±n次光(n=1,2,3・・・)をストッパーにより選択的に取り出し、該取り出したn次光を用いて形成される干渉像を形成し、これより得られた情報を用いて該格子状マークの位置を検出することにより、該ウエハを所定位置に位置合わせを行っていること

Claim (excerpt)：

露光光で照明されたレチクルに形成されたパターンを投影レンズを介してウエハ面上に投影露光する投影露光装置において、該ウエハ面に設けた格子状マークを照明手段からの単色光で該投影レンズを介して照明し、該格子状マークからの反射回折光を該投影レンズを通過させた後、該投影レンズに対して該格子状マークと略共役な位置に反射面を配置した反射部材で露光光路外に導光し、該反射回折光のうち±n次光(n=1,2,3・・・)をストッパーにより選択的に取り出し、該取り出したn次光を用いて形成される干渉像の撮像信号から得られる、2次元座標の一つの方向に電気的あるいは光学的に投影積算された1次元の投影積算信号を、直交変換により空間周波数領域に変換し、該空間周波数領域上で該1次元投影積算信号より該格子状マークの周期性に基づく干渉像より固有に現われる空間周波数成分を選択し、該格子状マークの位置を検出することにより、該ウエハを所定位置に位置合わせを行っていることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/22

FI (7)：

G01B 11/00 C ,  G01B 11/00 G ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 525 B ,  H01L 21/30 522 D ,  H01L 21/30 525 R ,  H01L 21/30 525 W

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-206706
  
• 特開平3-282715
  
• 特開平4-133309
  
• 特開昭61-202104