Pat
J-GLOBAL ID:200903067484871151
洗浄剤組成物及び洗浄剤組成物の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小島 隆司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000130379
Publication number (International publication number):2001311099
Application date: Apr. 28, 2000
Publication date: Nov. 09, 2001
Summary:
【要約】【解決手段】 陰イオン性界面活性剤、両性界面活性剤及び非イオン性界面活性剤から選ばれる界面活性剤を含有する洗浄剤組成物であって、(A)カチオン性界面活性剤と、(B)融点が45°C以上の高級アルコールと、(C)HLBが7以下のポリグリセリン脂肪酸エステルと、好ましくは(D)油性成分とを含有してなる洗浄剤組成物、及び上記(A)成分と(B)成分と液晶形成用水相とから液晶相を形成させ、該液晶相中に上記(C)成分及び必要に応じて(D)成分を添加、混合した後、上記界面活性剤を含有するエマルション形成用水相を添加、混合して、O/W型エマルションタイプの洗浄剤組成物を製造する。【効果】 経時安定性及び使用感に優れた洗浄剤組成物が得られ、シリコーン化合物等の油性成分を組成中に微分散化することが可能となる。
Claim (excerpt):
陰イオン性界面活性剤、両性界面活性剤及び非イオン性界面活性剤から選ばれる1種又は2種以上の界面活性剤を含有する洗浄剤組成物であって、(A)カチオン性界面活性剤と、(B)融点が45°C以上の高級アルコールと、(C)HLBが7以下のポリグリセリン脂肪酸エステルとを含有してなることを特徴とする洗浄剤組成物。
IPC (6):
C11D 11/00
, A61K 7/075
, C11D 1/38
, C11D 1/68
, C11D 3/20
, C11D 17/08
FI (6):
C11D 11/00
, A61K 7/075
, C11D 1/38
, C11D 1/68
, C11D 3/20
, C11D 17/08
F-Term (64):
4C083AA112
, 4C083AB352
, 4C083AB442
, 4C083AC071
, 4C083AC072
, 4C083AC122
, 4C083AC182
, 4C083AC242
, 4C083AC302
, 4C083AC312
, 4C083AC392
, 4C083AC421
, 4C083AC422
, 4C083AC482
, 4C083AC562
, 4C083AC582
, 4C083AC622
, 4C083AC642
, 4C083AC692
, 4C083AC712
, 4C083AC782
, 4C083AC792
, 4C083AC852
, 4C083AC862
, 4C083AD132
, 4C083AD152
, 4C083AD162
, 4C083AD392
, 4C083AD532
, 4C083AD662
, 4C083BB04
, 4C083BB05
, 4C083BB06
, 4C083BB07
, 4C083BB11
, 4C083CC38
, 4C083DD33
, 4C083EE01
, 4C083EE06
, 4H003AA03
, 4H003AB05
, 4H003AB10
, 4H003AB15
, 4H003AB27
, 4H003AB31
, 4H003AB46
, 4H003AC03
, 4H003AC08
, 4H003AC15
, 4H003AD02
, 4H003AD04
, 4H003AE05
, 4H003AE09
, 4H003AE10
, 4H003BA12
, 4H003CA15
, 4H003DA02
, 4H003EB04
, 4H003EB08
, 4H003EB37
, 4H003EB42
, 4H003ED02
, 4H003FA16
, 4H003FA21
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
-
頭髪用化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-127054
Applicant:鐘紡株式会社
-
特開昭63-230620
-
特開平2-000764
-
毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-371321
Applicant:ライオン株式会社
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