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J-GLOBAL ID:200903067488748761

洗浄料組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003323207
Publication number (International publication number):2005089571
Application date: Sep. 16, 2003
Publication date: Apr. 07, 2005
Summary:
【目的】 泡立ち・泡質に優れ、毛髪や肌等のなめらかさ・しっとりさが良好で、しかも皮膚への刺激が少ない洗浄料組成物を提供する。【構成】 (a)下記一般式(1)で表され、特定の条件を満たすポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩及び/又はポリオキシエチレンアルケニルエーテル硫酸塩と(化1)R-(OC2H4)n-OSO3M (1)[式中、Rは炭素数8〜24のアルキル基又はアルケニル基;nはエチレンオキサイドの平均付加モル数で1≦n≦6;Mはアルカリ金属、アンモニウム、または、ヒドロキシアルキルアンモニウムである。](b)ポリグリセリン脂肪酸エステル及び/またはポリグリセリンとを含有することを特徴とする洗浄料組成物。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
(a)下記一般式(1)で表され、下記式(2)の条件を満たすポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩及び/又はポリオキシエチレンアルケニルエーテル硫酸塩と (化1) R1-(OC2H4)n-OSO3M (1) [式中、R1は炭素数8〜24のアルキル基又はアルケニル基;nはエチレンオキサイドの平均付加モル数で1≦n≦6;Mはアルカリ金属、アンモニウム、または、ヒドロキシアルキルアンモニウムである。] (化2) i=nmax+1 Σ Yi≧70質量% (2) i=nmax-1 [式中、Yiは付加モル数がiモルのポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩及び/又はポリオキシエチレンアルケニルエーテル硫酸塩の質量%;nmaxは最も質量%の多いポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩及び/又はポリオキシエチレンアルケニルエーテル硫酸塩のエチレンオキサイド付加モル数で1以上の整数である。] (b)ポリグリセリン脂肪酸エステル及び/またはポリグリセリンとを含有することを特徴とする洗浄料組成物。
IPC (9):
C11D1/29 ,  A61K7/00 ,  A61K7/075 ,  A61K7/50 ,  C11D1/68 ,  C11D1/88 ,  C11D3/20 ,  C11D3/37 ,  C11D10/02
FI (9):
C11D1/29 ,  A61K7/00 J ,  A61K7/075 ,  A61K7/50 ,  C11D1/68 ,  C11D1/88 ,  C11D3/20 ,  C11D3/37 ,  C11D10/02
F-Term (57):
4C083AA112 ,  4C083AB052 ,  4C083AC092 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC172 ,  4C083AC182 ,  4C083AC302 ,  4C083AC392 ,  4C083AC442 ,  4C083AC482 ,  4C083AC522 ,  4C083AC582 ,  4C083AC642 ,  4C083AC662 ,  4C083AC712 ,  4C083AC781 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AC852 ,  4C083AC892 ,  4C083AD111 ,  4C083AD112 ,  4C083AD131 ,  4C083AD132 ,  4C083AD152 ,  4C083AD412 ,  4C083AD572 ,  4C083AD662 ,  4C083BB07 ,  4C083CC23 ,  4C083CC38 ,  4C083DD31 ,  4H003AB09 ,  4H003AB31 ,  4H003AB34 ,  4H003AB45 ,  4H003AC03 ,  4H003AC08 ,  4H003AC13 ,  4H003AD04 ,  4H003DA02 ,  4H003EB04 ,  4H003EB05 ,  4H003EB06 ,  4H003EB08 ,  4H003EB09 ,  4H003EB16 ,  4H003EB28 ,  4H003EB37 ,  4H003EB41 ,  4H003EB42 ,  4H003EB43 ,  4H003ED02 ,  4H003FA02 ,  4H003FA18 ,  4H003FA21
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (5)
  • 特開平2-250819
  • 特開平4-120012
  • 特開昭52-035202
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