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J-GLOBAL ID：200903067514728472

半導体製造設備用転がり軸受

Inventor： 近藤 博光
Applicant, Patent owner： エヌティエヌ株式会社
Agent (1)： 江原 省吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992006109
Publication number (International publication number)：1993196044
Application date： Jan. 17, 1992
Publication date： Aug. 06, 1993
Summary：

【要約】【目的】 耐久性、低発塵性等の基本的特性に加え、さらに非磁性が要求される環境下で使用することのできる半導体製造設備用転がり軸受を提供する【構成】 この軸受は、内輪1、外輪2、内・外輪1、2間に介在する複数の転動体3、転動体3を円周等間隔に保持する保持器4といった軸受構成部品で構成される。これらの軸受構成部品は非磁性材で形成されており、例えば、内輪1および外輪2はMn-Cr系オーステナイト鋼、転動体3はセラミック(Si3N4)、保持器4はオーステナイト系ステンレス鋼で形成される。そして、内・外輪1、2の転走面および転動体3の表面にはそれぞれ平均分子量が5000以下のPTFEの潤滑皮膜1a、2a、3aが形成されている。

Claim (excerpt)：

半導体製造設備に用いられる転がり軸受であって、この軸受を構成する内輪、外輪、転動体、および保持器を非磁性材で形成し、かつ、この軸受の転がり摩擦または滑り摩擦を生ずる軸受構成部品のうち、少なくとも転動体の表面に平均分子量が5000以下のポリテトラフルオロエチレンからなる潤滑皮膜を形成したことを特徴とする半導体製造設備用転がり軸受。

IPC (3)：

F16C 33/62 ,  F16C 33/32 ,  F16C 33/44

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-088321
  
• 特開昭60-055315
  
• 特開平3-119095
  
• 特開平4-333558