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J-GLOBAL ID：200903067516793263

顕微鏡装置

Inventor：
原田 満雄

About 原田 満雄


Applicant, Patent owner：
オリンパス光学工業株式会社

About オリンパス光学工業株式会社


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001230335
Publication number (International publication number)：2003043374
Application date： Jul. 30, 2001
Publication date： Feb. 13, 2003
Summary：
【要約】【課題】 光学素子毎に、高精度な観察を行うために必要な多量の情報の記録、読み出し、追加、修正などが行え、また確実な情報の授受が行えるような光学素子の保持方法を備えた顕微鏡装置を提供する【解決手段】 顕微鏡本体に設けられた担持体に着脱自在に設けられた光学素子(5)と、光学素子に設けた光学素子の特性情報である固有情報を記憶する記憶手段(9)と、顕微鏡本体と担持体の少なくとも1方に設けた記憶手段に記憶された情報を読み取る記憶情報読取手段(11)とを有する顕微鏡装置において、顕微鏡本体と担持体の少なくとも1方に、更に光学素子の固有情報以外の情報を記憶手段に書き込む情報書込手段(11)を備えた顕微鏡装置である。
Claim (excerpt)：
顕微鏡本体に設けられた担持体と、前記担持体に着脱自在に設けられた光学素子と、前記光学素子に設けた前記光学素子の特性情報である固有情報を記憶する記憶手段と、前記顕微鏡本体と前記担持体の少なくとも1方に設けた前記記憶手段に記憶された情報を読み取る記憶情報読取手段とを有する顕微鏡装置において、前記顕微鏡本体と前記担持体の少なくとも1方に、更に前記光学素子の前記固有情報以外の情報を前記記憶手段に書き込む情報書込手段を備えたことを特徴とする顕微鏡装置。
IPC (3)：
G02B 21/36 ,  G02B 7/02 ,  G02B 7/16
FI (3)：
G02B 21/36 ,  G02B 7/02 E ,  G02B 7/16
F-Term (6)：
2H044AE06 ,  2H044HC02 ,  2H044HC06 ,  2H052AD31 ,  2H052AD33 ,  2H052AF01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 顕微鏡
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-342834   Applicant：ライカミクロジュステムスヴェツラーゲーエムベーハー
  • 特開昭58-078110
  • 非接触情報媒体とその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-324423   Applicant：日立マクセル株式会社
Cited by examiner (3)
  • 顕微鏡
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-342834   Applicant：ライカミクロジュステムスヴェツラーゲーエムベーハー
  • 特開昭58-078110
  • 非接触情報媒体とその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-324423   Applicant：日立マクセル株式会社

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