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J-GLOBAL ID:200903067517934324

含フッ素ブロック共重合体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 勝利
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993069943
Publication number (International publication number):1994279555
Application date: Mar. 29, 1993
Publication date: Oct. 04, 1994
Summary:
【要約】【目的】高度な耐候性や耐汚染性を発現する含フッ素ブロック共重合体を、合成条件上の制限がなく簡便に得る製造方法を提供する。【構成】本発明は、高分子鎖の一方または両方の末端に、【化1】で示される構造を含む、波長200から450nmの光を照射することによって光重合を開始できる末端官能基を有する化合物の存在下に、含フッ素ビニル単量体を必須の単量体とするビニル単量体混合物を重合させてなる、含フッ素ブロック共重合体の合成方法に関する。【効果】本発明の含フッ素ブロック共重合体の合成法は、合成時における反応条件の制限が非常に少なく、また合成できる含フッ素ブロック共重合体の高分子セグメントの組み合わせ自由度が非常に高い。また合成される含フッ素ブロック共重合体は耐汚染性に優れるなどの高度な性質を有し、また他の樹脂にそれを付与することができる。
Claim (excerpt):
高分子鎖の一方または両方の末端に、波長200から450nmの光を照射することによって光重合を開始できる末端官能基を有する化合物(I)の存在下に、含フッ素ビニル単量体(II)を必須の単量体として光重合させることを特徴とする含フッ素ブロック共重合体の製造方法。
IPC (2):
C08F293/00 MRC ,  C08F 2/50 MDS
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平3-162247

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