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J-GLOBAL ID：200903067527772489
ハイドロシリレーション法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992326796
Publication number (International publication number)：1993271249
Application date： Dec. 07, 1992
Publication date： Oct. 19, 1993
Summary：
【要約】【構成】 SiH基を有するシリコーン化合物と、少なくとも5個の炭素数をもちかつ不飽和結合が末端炭素原子に位置するジエンとの反応により珪素と結合したオレフィン性不飽和結合を有する基をもつオルガノシリコーン化合物の調製方法。該方法は、(i)表面反応性基をもつ無機質固体、(ii)無機質固体と反応する基及び窒素及び/または硫黄を含有する基をもつオルガノシリコーン化合物、及び(iii)白金化合物または錯化合物PtLb(Lは配位子である)を反応させることにより調製された触媒の存在下で行われる。【効果】 生成物は、二重結合の内部位置への移行から生ずる異性体含量が低減する。
Claim (excerpt)：
(A)分子中に少なくとも1個の珪素と結合した水素原子を有するシリコーン化合物と、(B)オレフィン性不飽和結合を含む有機化合物とを、(C)(i)表面反応性基を有する無機質固体と、(ii)一般式【化1】[式中、Zは(i)中の表面反応性基と反応する原子または基を表し、Rはそれぞれ塩素原子、臭素原子、炭素原子数1〜6個の1価の炭化水素基、炭素原子数1〜6個のアルコキシ基、または炭素原子数14個以下のオキシム基を表し、R’はそれぞれ炭素原子数1〜8個の1価の炭化水素基を表し、Xは11個までの炭素原子を有しかつ炭素、水素及び適宜酸素よりなり、珪素-炭素結合を介して珪素へ結合する1価の基であって、X中には少なくとも1個の硫黄原子または窒素原子が存在し、aは0または1〜20の整数である]のオルガノシリコーン化合物、及び(iii)白金化合物または錯化合物PtLb(式中、Lはそれぞれアミノ基またはメルカプト基により置換可能である少なくとも1個の配位子を表し、bはPtの遊離価を満足するような数である)の反応により調製された触媒の存在下で反応させることからなるオレフィン性不飽和結合を含む珪素と結合した炭化水素基を有するオルガノシリコーン化合物の調製方法において、有機化合物(B)が少なくとも5個の炭素原子をもちかつ不飽和結合が末端炭素原子に位置するジエンであることを特徴とするオルガノシリコーン化合物の調製方法。
IPC (3)：
C07F 7/12
, C01B 33/04
, C07B 61/00 300
