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J-GLOBAL ID：200903067548700283

照射室開放型X線分析装置

Inventor： 谷口 一雄 ,  迫 幸雄
Applicant, Patent owner： 理学電機工業株式会社
Agent (1)： 杉本 修司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997026408
Publication number (International publication number)：1998221276
Application date： Feb. 10, 1997
Publication date： Aug. 21, 1998
Summary：

【要約】【課題】 照射窓に試料がない場合に誤ってX線が照射されるのを確実に防止できる照射室開放型X線分析装置を提供する。【解決手段】 試料3に1次X線1を照射するX線源4と、試料3からの2次X線2を検出する検出器5とが照射室6に収納され、この照射室6を形成するケース7に開口する照射窓8が、照射室6の外方に位置する試料3によって覆われる構成とした照射室開放型X線分析装置において、検出器5で検出されたX線の強度が所定レベル以上であることを判別する判別手段20と、X線検出強度が所定レベル以上であるときX線源4から試料3への照射を継続させる保持手段24とを設ける。

Claim (excerpt)：

試料に1次X線を照射するX線源と、前記試料からの2次X線を検出する検出器とが照射室に収納され、この照射室を形成するケースに開口した照射窓が、前記照射室の外方に位置する前記試料によって覆われるX線分析装置において、前記検出器で検出されたX線の強度が所定レベル以上であることを判別する判別手段と、前記強度が所定レベル以上であるとき前記X線源から試料への照射を継続させる保持手段とを備えた照射室開放型X線分析装置。