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J-GLOBAL ID:200903067552515814
周波数走査型干渉計のための多工程データ処理
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
柳田 征史
, 佐久間 剛
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2004516161
Publication number (International publication number):2005531002
Application date: Jun. 23, 2003
Publication date: Oct. 13, 2005
Summary:
周波数走査干渉法のシステムは、被検物体表面に関する微細構造情報の測定を含む、距離または較差を測定するためのプログラムにしたがって動作するコンピュータシステムを用いる。干渉データは単点検出器またはそのような検出器のアレイを用いて検出され、コンピュータシステムに記録(格納)されて、ある範囲の光周波数にわたり一連の測定値がとられる。干渉データは、特定の距離または較差の尺度に対応する干渉周波数において光周波数の変化にともなって正弦的態様で変化する。ピーク干渉周波数を捜し出すためのフーリエ変換は、処理時間を節約するため、第1に周波数空間に限定され、第2に複数の工程に分割される。第1近似のために粗いフーリエ周波数サンプル間隔が用いられ、第2のさらに正確な近似を行うために第1近似値の近傍においてさらに細かいフーリエ周波数サンプル間隔が用いられる。
Claim (excerpt):
周波数走査型干渉計の干渉変動を判読するための多工程処理方法において、
あるビーム周波数範囲内のN個の異なるビーム周波数において対物ビームと基準ビームの間の一連のN個の干渉パターンを生成する工程、
前記N個の干渉パターンのそれぞれに現れる対応する領域に関する干渉データであって、前記ビーム周波数の変化にともなって増加的干渉条件及び減殺的干渉条件により周期変化する干渉データを記録する工程、
前記対応する領域に関する前記干渉データが前記ビーム周波数範囲全体にわたって受ける干渉サイクルの数に対応する干渉周波数の第1の近似を行う工程、
前記第1の近似の限界を求める工程、
前記干渉周波数の前記第1の近似の前記限界内で前記干渉周波数の第2の近似を行う工程、及び
前記干渉周波数の前記第2の近似またはより高次の近似で得られた値を、前記干渉パターンの前記対応する領域内で干渉する前記対物ビームの部分と前記基準ビームの部分の間の経路長差に対応する尺度に変換する工程、
を有してなることを特徴とする方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (15):
2F064AA01
, 2F064AA09
, 2F064BB07
, 2F064CC04
, 2F064EE01
, 2F064EE05
, 2F064FF01
, 2F064FF08
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG55
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2F064JJ01
, 2F064JJ15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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光学球面曲率半径測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-044154
Applicant:富士写真光機株式会社
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2段階高速フーリエ変換方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-156432
Applicant:沖電気工業株式会社
-
波長走査レーザ干渉計を用いた周波数解析における誤差補正方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-168609
Applicant:富士写真光機株式会社
-
干渉縞測定解析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-275319
Applicant:富士写真光機株式会社
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特開平2-022502
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信号の周期検出方法及びそれを用いた投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-081768
Applicant:株式会社日立製作所
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