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J-GLOBAL ID：200903067554194292

有機ケイ素重合体およびレジスト組成物

Inventor： 渡部 慶二 ,  矢野 映 ,  並木 崇久 ,  福田 麻奈美
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 青木 朗 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991284841
Publication number (International publication number)：1993117392
Application date： Oct. 30, 1991
Publication date： May. 14, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 二層構造レジストの上層レジストとして使用した時、十分な酸素プラズマ耐性を有しており、また感度及び解像性に優れたポジ型レジストおよびこれに使用できる有機ケイ素重合体を提供する。【構成】 次式(1):〔Si2R1 O3 〕m 〔(R2)3 SiO1/2 〕n ...(1)〔式中、m,nは正の整数であり、m/n=90/10〜10/90、R1 R2は同一もしくは異なっていてもよく、C1 〜C10のアルキレンを示し、次式(2)等の(R3 は低級アルキル基あるいはアリール基を示す)、低級アルキル基またはアリール基を示し、R2 のうち少なくとも全体の20%以上が次式(3)等(R3 は前記定義に同じ)、である〕で示される重量平均分子量1,000〜5,000,000の有機ケイ素重合体を構成し、更に該有機ケイ素重合体と一定の溶解抑制剤と、酸発生剤のオニウム塩と、有機溶剤とを含むようにレジスト組成物を構成する。

Claim (excerpt)：

次式1:〔Si2R1 O3 〕m 〔(R2)3 SiO1/2 〕n ...(1)〔式中、m,nは正の整数であり、m/n=90/10〜10/90、R1 は同一もしくは異なっていてもよく、C1 〜C10のアルキレンを示し、R2 は同一もしくは異なっていてもよく、【化1】【化2】(R3 は低級アルキル基あるいはアリール基を示す)、【化3】低級アルキル基またはアリール基を示し、R2 のうち少なくとも全体の20%以上が【化4】【化5】(R3 は前記定義に同じ)、または【化6】である〕で示される重量平均分子量1,000〜5,000,000の有機ケイ素重合体。

IPC (7)：

C08G 77/00 NTZ ,  C08L 83/04 LRZ ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/26 511 ,  H01L 21/027