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J-GLOBAL ID：200903067557202555

プラズマ装置

Inventor： 新井 宏和 ,  小泉 建次郎
Applicant, Patent owner： 住友金属工業株式会社
Agent (1)： 河野 登夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992357467
Publication number (International publication number)：1994196421
Application date： Dec. 23, 1992
Publication date： Jul. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ベルジャからのパーティクルの発生を抑制し、また温度変化を緩和してベルジャ及び防着板からのパーティクルの発生を抑制するプラズマ装置を提供すること。【構成】 マイクロ波導入窓1a及びプラズマ引出窓1bを備えるプラズマ生成室1にはフロスト処理して粗面加工されたベルジャ4が配設してあり、またプラズマ生成室1に連接し、試料Sを載置台する載置台8が配置された試料室3にはガス導入管9及び排気管11が接続してあり、試料室3,載置台8及び排気管11の一端部にわたって防着板5が配設してある。プラズマ生成室1の側壁及び試料室3の側壁,底壁,排気管11の端部の外面には上部加温壁6及び下部加温壁7がそれぞれ配設してある。また上部加温壁6の周囲には及びプラズマ生成室1に接続した導波管2の一端部にわたって励磁コイル12を配設してある。そして上部加温壁6及び下部加温壁7に温流体を循環させてベルジャ4及び防着板5を加温しつつ試料Sをプラズマ処理する。

Claim (excerpt)：

その内面を防護するベルジャを配設したプラズマ生成室にて生成したプラズマを、その内面への堆積物の付着を防ぐ防着板を配設した試料室内の試料に導いてこれを加工するプラズマ装置において、前記プラズマ生成室は前記堆積物を付着させるべく内面が粗面加工されたベルジャを配設してあることを特徴とするプラズマ装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  H05H 1/46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平4-239121
  
• 特開平4-179222
  
• 特開平2-183533
  
• 特開平3-295231
  
• 特開平3-183778