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J-GLOBAL ID:200903067571957364

マイクロ波プラズマ発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 溝上 満好 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994103798
Publication number (International publication number):1995312298
Application date: Oct. 25, 1985
Publication date: Nov. 28, 1995
Summary:
【要約】【目的】 プラズマを全域に均一となるように発生させること。【構成】 マイクロ波発振器1と、マイクロ波発振器1からのマイクロ波を伝送する導波管2と、導波管2に接続された誘電体被覆線路3と、誘電体被覆線路3に対向配置されるマイクロ波導入窓を有する反応器6とを備えたマイクロ波プラズマ発生装置である。誘電体被覆線路3またはマイクロ波導入窓を有する反応器6のすくなくともどちらか一方をマイクロ波の導入側から進行方向に向かって両者間の間隔が小さくなるような傾斜角度調整部材8を備える。
Claim (excerpt):
マイクロ波発振器と、該マイクロ波発振器からのマイクロ波を伝送する導波管と、該導波管に接続された誘電体被覆線路と、該誘電体被覆線路に対向配置されるマイクロ波導入窓を有する反応器とを備えたマイクロ波プラズマ発生装置において、誘電体被覆線路またはマイクロ波導入窓を有する反応器のすくなくともどちらか一方をマイクロ波の導入側から進行方向に向かって両者間の間隔が小さくなるような傾斜角度調整部材を備えたことを特徴とするマイクロ波プラズマ発生装置。
IPC (2):
H05H 1/46 ,  C23F 4/00

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